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Die Bestimmung der magnetischen Eigenschaften dünner magnetischer Filme auf Waferniveau zu ermöglichen, war die Hauptaufgabe des Verbundprojektes "Messtechnik für die fertigungsgerechte Charakterisierung magnetischer Mikrobauteile" (CHARMA).
Damit erhält der Hersteller von magnetischen Mikrosensoren bereits während der Fertigung die Möglichkeit zur Qualitätssicherung bei dünnen magnetischen Schichten. Hierzu wurde ein Hysteresemesssystem entwickelt, bestehend aus mikrotechnisch gefertigtem Wandler, Ansteuerung und hochempfindlicher Auswertung.
Das System gestattet, anisotrope Schichteigenschaften zu erfassen. Neben Aktivitäten in magnetischer Mikromesstechnik wurden ferner Verfahren entwickelt, mit Hilfe eines fokussierten Ionenstrahls (Focused Ion Beam – FIB) Bauteile an der Oberfläche aufzuschneiden und geometrische Eigenschaften zu bestimmen. Damit steht eine in-situ-Messmöglichkeit bei der Fertigung von magnetischen Bauteilen zur Verfügung.